Излагается физика формирования электронных и ионных пучков малых и средних энергий, а также пучков ультрамягкого рентгеновского излучения. Рассматриваются физические явления, возникающие при взаимодействии пучков указанных типов с веществом. Детально исследуются механизмы экспонирования электронных, ионных и рентгеновских резистов. Описываются численные электронно- и ионно-литографические эксперименты по методы Монте-Карло. Обсуждается физика процесса ионно-лучевого распыления (травления) твердых тел. Излагаются физические основы методы определения субмикронных размеров элементов интегральных микросхем и приводятся примеры решения некоторых метрологических задач.
| Вес: | 450 |
| Ширина упаковки: | 150 |
| Высота упаковки: | 25 |
| Глубина упаковки: | 220 |
| crossborder: | false |
| Издательство: | Радио и связь |
| Тираж: | 3100 |
| Название: | Физические основы субмикронной литографии в микроэлектронике |
| Комментарий: | Имеется штамп "контрольный экз." стр. 2 |
| Издатель: | Радио и связь |
| Вес товара, г: | 420 |
| Сохранность: | Отличная |
| Тип издания: | Отдельное издание |
| Период публикации: | Литература XX в. |
| Основной жанр книги: | Научная литература |
| Направления нехудожественной литературы: | Технические науки |
| Тип книги: | Букинистика |
| Тип обложки: | Твердый переплет |
| Тип носителя: | Печатная книга |
| Эпоха публикации: | Букинистические издания |
| ebsmstock: | false |
Frame $60% в наличии